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德国raith电子束光刻

德国raith电子束光刻:

应用：化合物半导体器件

光电

衍射光学元件

集成电路分析

微纳米工程

纳米光子学

纳米科学

德国raith电子束光刻产品：

电子束光刻

FIB-SEM纳米

大面积SEM成像

纳米光刻

无掩模激刻

德国raith电子束光刻产品描述：

电子束光刻系统是 Raith 的核心业务。我们泛的产品组合，涵盖从全自动高分辨率系统到多功能工具的方方面面，可为您提供理想的 EBL 系统以您的需求。

德国raith电子束光刻产品属性

具有自动化、吞吐量和性的高分辨率光刻

EBPG Plus 是一种的电子束光刻系统。这个经过现场验证且成功的系列现在已经了进一步的进化水平。凭借100 kV 写入模式和5 nm 以下的高分辨率光刻，它涵盖了各种纳米设施中直接写入纳米光刻、工业研发和批量生产的前沿应用。吞吐量、稳定性度和精度的新集成协调了性能参数之间的交互，以获得的高分辨率光刻结果。诸如

·自动晶圆和多样品曝光

·自动曝光参数切换和校准，实现高通量和高分辨率之间的稳定切换

·易于学习的图形用户界面和脚本终端界面

·的多用户环境和不同的访问别

·快的阶段，建立时间短

·自动 2 或 10 座气闸，

·且无错误的样品校准

·用于线边缘粗糙度的压裂模式

·使用 Firebird 的数据处理，在短的时间内实现的模式度

德国raith电子束光刻特点：

特征

具有覆盖精度的直接写入性能≤5纳米

稳定的大面积书写，拼接准确≤8纳米

束流350安